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  金属硅细粉是集成电路、电子元件必不可少的原材料,但是如果金属硅粉中含有太多的磷杂质就无法做半导体器件了,那么就会有很多人来问如何去除金属硅粉中的磷杂质呢?下面是茂鑫冶金为我们介绍的去除磷杂质的一些方法。
      1.将金属硅粉置于感应炉中,并通入氮气,使其在1460~1500℃下熔化;
      2.将体积比为1.2:1~1:1.5的二氧化硅和碳酸锂置于另一个坩埚中,在1440~1460℃下熔化;
      3.将熔化好的二氧化硅-碳酸锂混合物直接倒入熔化的硅液中,30分钟后停炉;
      4.待冷却后,硅与渣会自然分离,得到破碎硅;
      5.将得到的破碎硅用1:6的HF酸与HCl浸泡15~30小时,清除破碎硅中的磷与其他金属杂质;
      通过上面的介绍我们对去除磷杂质的方法有了一定的了解,那么在以后我们发现了金属硅粉中含有大量的磷杂质就可以采用上面的方法来去除。希望我们的介绍能够对大家有所帮助。更多关于这方面的信息请多多关注我们的网站。

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时间:2017-5-22 0:00:00

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